세라믹 제품
구형 실리카
MEGASIL™ SS
구형 실리카 분말은 반도체 장치(예: 5G 및 IoT 장치에 연결된 메모리 집적 회로(IC))를 물리적 및 환경적 손상으로부터 캡슐화하고 보호하는 열경화성 재료인 에폭시 몰딩 컴파운드(EMC) 및 그린 EMC(무할로겐, 무안티몬)의 생산에 사용됩니다.
적용 분야: 소비자 가전, 자동차, 산업용 전자제품.
입자 데이터 및 물리적 특성(낮음-a 등급)
평균값입니다.
이는 사양을 나타내지 않습니다.
| 크기 | SS-U130R | SS-U130H4 | SS-U052H2 | SS-U020H | 방법 | ||
|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
Ind.
Sieve |
<2μm |
7.22 |
12.12 |
11.86 |
36.31 |
% |
CILAS 레이저 |
|
Ind.
Sieve |
<5μm |
24.1 |
32.02 |
50.71 |
86.94 |
% |
CILAS 레이저 |
|
Ind.
Sieve |
<8μm |
34.55 |
40.29 |
80.22 |
98.30 |
% |
CILAS 레이저 |
|
Ind.
Sieve |
<12μm |
46.33 |
49.63 |
95.07 |
100.00 |
% |
CILAS 레이저 |
|
Ind.
Sieve |
<25μm |
66.78 |
77.56 |
100.00 |
100.00 |
% |
CILAS 레이저 |
|
Ind.
Sieve |
<45μm |
90.09 |
98.96 |
100.00 |
100.00 |
% |
CILAS 레이저 |
|
Ind.
Sieve |
<75μm |
99.76 |
100.00 |
100.00 |
100.00 |
% |
CILAS 레이저 |
|
입자 크기 |
D10 |
2.36 |
1.83 |
1.87 |
1.06 |
μm |
CILAS 레이저 |
|
입자 크기 |
D50 |
13.56 |
12.16 |
4.94 |
2.51 |
μm |
CILAS 레이저 |
|
입자 크기 |
D90 |
13.56 |
12.16 |
4.94 |
2.51 |
μm |
CILAS 레이저 |
|
수분 함량 |
|
0.01 |
0.01 |
0.01 |
0.02 |
wt.% |
105°C 오븐 |
|
pH 값 |
|
4.81 |
4.49 |
5.25 |
4.50 |
– |
pH 측정기 |
|
비중 |
|
2.21 |
2.21 |
2.21 |
2.21 |
– |
피크노미터 |
|
전기 전도성 |
|
2.3 |
1.70 |
0.40 |
6.40 |
μs/cm |
E.C 미터 |
|
특정 표면적 |
|
4.5 |
3.86 |
1.16 |
28.20 |
m2/g |
BET |
|
순환성 |
|
0.97 |
0.95 |
0.97 |
– |
– |
FPIA |
화학 분석(XRF)
| SS-U130R | SS-U130H4 | SS-U052H2 | SS-U020H | 방법 | ||
|---|---|---|---|---|---|---|
|
SiO2 |
99.8 |
99.9 |
99.9 |
99.9 |
ppm |
XRF |
|
Al2O3 |
826 |
491 |
129 |
654 |
ppm |
XRF |
|
Fe2O3 |
47 |
48 |
40 |
133 |
ppm |
XRF |
|
Na2O |
47 |
15 |
25 |
32 |
ppm |
XRF |
이온 불순물(IC)
| SS-U130R | SS-U130H4 | SS-U052H2 | SS-U020H | 방법 | ||
|---|---|---|---|---|---|---|
|
Na+ |
2.4 |
1.0 |
1.1 |
8.4 |
ppm |
I.C |
|
Cl- |
1.3 |
0.4 |
0.9 |
1.4 |
ppm |
I.C |
입도 데이터 및 물리적 특성(표준 등급, 혼합 유형)
평균값입니다.
이는 사양을 나타내지 않습니다.
| 크기 | SS-0140R | SS-0160R | SS-0160H | SS-0170R | SS-0140C5 | 방법 | ||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
Ind.
Sieve |
<2μm |
7.98 |
8.99 |
8.16 |
8.29 |
36.31 |
% |
CILAS 레이저 |
|
Ind.
Sieve |
<5μm |
25.73 |
27.76 |
30.96 |
26.04 |
27.84 |
% |
CILAS 레이저 |
|
Ind.
Sieve |
<8μm |
34.00 |
37.29 |
40.17 |
35.80 |
36.50 |
% |
CILAS 레이저 |
|
Ind.
Sieve |
<12μm |
42.67 |
47.68 |
47.59 |
43.00 |
45.61 |
% |
CILAS 레이저 |
|
Ind.
Sieve |
<25μm |
59.71 |
67.73 |
62.03 |
60.46 |
64.61 |
% |
CILAS 레이저 |
|
Ind.
Sieve |
<45μm |
88.01 |
90.70 |
86.86 |
86.90 |
91.94 |
% |
CILAS 레이저 |
|
Ind.
Sieve |
<75μm |
99.74 |
99.80 |
99.61 |
99.63 |
99.91 |
% |
CILAS 레이저 |
|
입자 크기 |
D10 |
2.24 |
2.11 |
2.23 |
2.20 |
2.12 |
μm |
CILAS 레이저 |
|
입자 크기 |
D50 |
16.71 |
13.08 |
13.60 |
16.49 |
12.98 |
μm |
CILAS 레이저 |
|
입자 크기 |
D90 |
47.23 |
44.15 |
48.58 |
48.46 |
42.45 |
μm |
CILAS 레이저 |
|
수분 함량 |
|
0.01 |
0.01 |
0.01 |
0.01 |
0.01 |
wt.% |
105°C 오븐 |
|
pH 값 |
|
4.45 |
4.50 |
4.50 |
4.54 |
4.40 |
– |
pH 측정기 |
|
비중 |
|
2.21 |
2.21 |
2.21 |
2.21 |
2.21 |
– |
피크노미터 |
|
전기 전도성 |
|
1.70 |
1.70 |
1.70 |
1.30 |
2.20 |
μs/cm |
E.C 미터 |
|
특정 표면적 |
|
3.20 |
4.90 |
3.90 |
3.70 |
4.10 |
m2/g |
BET |
|
순환성 |
|
0.95 |
0.95 |
0.95 |
0.95 |
0.96 |
– |
FPIA |
화학 분석(XRF)
| SS-0140R | SS-0160R | SS-0160H | SS-0170R | SS-0140C5 | 방법 | ||
|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
SiO2 |
99.8 |
99.8 |
99.8 |
99.8 |
99.8 |
% |
XRF |
|
Al2O3 |
1119 |
998 |
898 |
926 |
1189 |
ppm |
XRF |
|
Fe2O3 |
75 |
50 |
38 |
51 |
67 |
ppm |
XRF |
|
Na2O |
59 |
43 |
19 |
53 |
26 |
ppm |
XRF |
이온 불순물(IC)
| SS-0140R | SS-0160R | SS-0160H | SS-0170R | SS-0140C5 | 방법 | ||
|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
Na+ |
1.8 |
2.2 |
1.3 |
1.7 |
2.0 |
ppm |
I.C |
|
Cl- |
2.1 |
1.3 |
1.3 |
1.5 |
1.8 |
ppm |
I.C |
입도 데이터 및 물리적 특성(표준 등급, 단일 성분)
평균값입니다.
이는 사양을 나타내지 않습니다.
| 크기 | SS-0030 | SS-0090 | SS-0250 | SS-0300 | 방법 | ||
|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
Ind.
Sieve |
<2μm |
12.23 |
8.9 |
4.68 |
4.73 |
% |
CILAS 레이저 |
|
Ind.
Sieve |
<5μm |
53.92 |
26.74 |
12.91 |
14.63 |
% |
CILAS 레이저 |
|
Ind.
Sieve |
<8μm |
72.26 |
43.04 |
17.09 |
19.78 |
% |
CILAS 레이저 |
|
Ind.
Sieve |
<12μm |
86.45 |
67.14 |
24.33 |
27.20 |
% |
CILAS 레이저 |
|
Ind.
Sieve |
<25μm |
99.42 |
96.99 |
48.14 |
47.51 |
% |
CILAS 레이저 |
|
Ind.
Sieve |
<45μm |
100 |
100 |
80.53 |
78.05 |
% |
CILAS 레이저 |
|
Ind.
Sieve |
<75μm |
100 |
100 |
99.63 |
99.48 |
% |
CILAS 레이저 |
|
입자 크기 |
D10 |
1.65 |
2.12 |
3.46 |
3.20 |
μm |
CILAS 레이저 |
|
입자 크기 |
D50 |
4.55 |
9.09 |
26.04 |
26.70 |
μm |
CILAS 레이저 |
|
입자 크기 |
D90 |
13.59 |
18.73 |
53.26 |
54.94 |
μm |
CILAS 레이저 |
|
수분 함량 |
|
0.02 |
0.01 |
0.01 |
0.01 |
wt.% |
105°C 오븐 |
|
pH 값 |
|
4.14 |
4.86 |
4.96 |
5.01 |
– |
pH 측정기 |
|
비중 |
|
2.21 |
2.21 |
2.21 |
2.21 |
– |
피크노미터 |
|
전기 전도성 |
|
4.8 |
1.7 |
0.80 |
0.90 |
μs/cm |
E.C 미터 |
|
특정 표면적 |
|
11.6 |
1.6 |
1.1 |
0.9 |
m2/g |
BET |
|
순환성 |
|
0.85 |
0.91 |
0.85 |
0.87 |
– |
FPIA |
|
체 잔여물 |
45μm켜짐 |
0.14 |
0.04 |
11.58 |
11.93 |
wt.% |
젖은 체 |
|
체 잔여물 |
75μm켜짐 |
0 |
0 |
0.02 |
0.02 |
wt.% |
젖은 체 |
|
체 잔여물 |
106 μm켜짐 |
0 |
0 |
0 |
|
wt.% |
젖은 체 |
화학 분석(XRF)
| SS-0030 | SS-0090 | SS-0250 | SS-0300 | 방법 | ||
|---|---|---|---|---|---|---|
|
SiO2 |
99.7 |
99.8 |
99.8 |
99.8 |
% |
XRF |
|
Al2O3 |
1216 |
610 |
597 |
1040 |
ppm |
XRF |
|
Fe2O3 |
86 |
43 |
48 |
48 |
ppm |
XRF |
|
Na2O |
55 |
43 |
40 |
40 |
ppm |
XRF |
이온 불순물(IC)
| SS-0030 | SS-0090 | SS-0250 | SS-0300 | 방법 | ||
|---|---|---|---|---|---|---|
|
Na+ |
2.8 |
2.4 |
1.3 |
0.8 |
ppm |
I.C |
|
Cl- |
2.4 |
2.6 |
1.1 |
1.3 |
ppm |
I.C |
활용 분야
- 소비자
- 자동차
- 산업용 전자 제품
제품 데이터시트 다운로드
